Description:

●基板尺寸:2”-6”Wafer或其他自公转设计

●蒸镀源:3KW/6KW/10KW，6x12 cc或其他

●X.YSweep Controller

●膜厚控制器.自动镀膜制程

●载台设计:偏角度，自公转，行星式..etc.,

  

3 片10x10cm自公转载台                                                          3 Zones 4” Wafer 自公转载台

  

 

 偏角度及旋转载台(可加温或水冷)                                                多片自公转及角度自动调整载台

电子束蒸镀系统