Description:

●Source:ICP 13.56 MHz 1000-2000 W RF

●Bias: 13.56 MHz 300 W RF

●自动压力控制器

●2”-6” 水冷载台

●气体:H₂，CF₄，SF₆,Ar, N₂ . O₂ ... etc.,

反应式离子蚀刻系统