Description:

●低压溅镀沉积(10^-4Torr)

●高质量、平滑、无针孔无针孔薄膜

●可实现<+/-3%的均匀沉积

●增强的附着力和微观结构控制

●极佳的覆盖效果高宽比特征

●独立控制离子束参数，使用户能够设计薄膜以获得所需的特性

●低能量离子辅助端霍尔离子源

离子束溅射沉积系统